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      小型实验设备(蒸发/磁控)

      产品特点

      技术参数

      设备型号ZZDS500 蒸发镀膜手套箱系统
      极限真空5×10-5Pa
      抽速大气~5×10-4Pa≤15min
      蒸发源6个,金属/有机数量任意搭配
      蒸发源类型蒸发舟or有机、金属束源炉
      样品尺寸210×210mm,向下兼容
      膜厚均匀性≤±3%
      均匀性判定(Tmax-Tmin)/(Tmax+Tmin)×100%
      蒸发距离450mm~550mm可调
      样品温控单加热模式:室温~300℃可调
      单水冷模式:10~25℃可调
      冷热双温模式:10~200℃可调

      技术参数

      设备型号ZCJS500 磁控溅射手套箱系统
      极限真空5×10-5Pa
      抽速大气~5×10-4Pa≤15min
      溅射靶3或4英寸靶,数量≤3
      溅射电源射频/中频脉冲/直流
      样品尺寸150×150mm,向下兼容
      膜厚均匀性≤±5%
      均匀性判定(Tmax-Tmin)/(Tmax+Tmin)×100%
      溅射距离100mm~±30mm可调
      样品温控单加热模式:室温~300℃可调
      冷热双温模式:10~200℃可调
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